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型号 名称 类型 PH 比重
(20℃,g/cm3)
沸点
(℃)
产品特点
EC6000 阻燃清洗剂 溶剂 7 1.05±0.05 >100 水基产品 ,气味小,对金属无腐蚀性 ,不含破坏臭氧层物质 。
ER6000 离型剂 溶剂 7 NA NA 高固含的水溶性离型剂    ,不含任何溶剂      。有效吸附各种颗粒,使用后可水洗性好。
EC3009 划片液 水性 7 1.030±0.010 NA 由多种进口表面活性 、缓蚀剂及其它助剂配制而成的浓缩型划片液。
EC7006 镭射保护液 水性 7 1.096±0.010 NA 配合研发生产定制半导体芯片 、光伏产业     、TFT液晶显示 、金属、玻璃  ,蓝宝石,陶瓷  ,PC复合板制程所需各类化工产品 ,方案定制提供配套技术及工艺支持 ,OEM和ODM技术服务商     。
ET-106 负胶显影液 溶剂 NA NA NA 溶剂型显影液    ,高纯有机溶剂调配。
ET-238 正胶显影液 水性 NA NA NA 无色的有机碱性水溶液,有特殊臭味    ,有腐蚀性 。
EC3000 边胶清洗剂 溶剂 7 0.920±0.010 NA 无色透明易挥发液体,易燃,有酯的香味      ,不溶于水。
EC2030 去蜡液 溶剂 7 0.845±0.010 NA 采用独特的溶蜡剂  、渗透剂   、助溶剂        、防腐剂等优质表面活性剂        ,经科学方法配制而成    。具有除蜡快速彻底 、润湿渗透能力强     、配比浓度低   、持效时间长、防蚀效果优异,使抛光表面光亮无斑及水洗性好等特点 。
ET1000 氧化铝抛光液 水性 7 1.02±0.010 >100 本产品属于纳米高纯阿尔法氧化铝抛光粉  ,晶相稳定       、硬度高  ,有调制好的抛光液可以直接使用 ,客户也可以按自己的配方调配。
EF6050 6um抛光液 水性/油性 7 0.990±0.010 >120 多晶金刚石具有自锐性和韧性  ,在抛光过程中,粗颗粒会破碎成更小的颗粒,可避免对工件表面造成划伤,而新的裂面具有更多锋利的切削棱,既保证了工件表面质量 ,又提高了研磨切削效率 ,在某些高质量要求的产品加工过程中显示出它独特的优越性 。
AR级 EL级 MOS级 RM-A级 丙酮/盐酸/硝酸/硫酸/磷酸/双氧水/无水乙醇/异丙醇 NA NA NA 无水乙醇-EL级  丙酮-MOS级  异丙醇-RM-B级 磷酸-EL级 盐酸-EL级 硫酸-MOS级 双氧水-RM-A级
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